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| 特性级别 | 增强级|||标准级||| |
| 牌号 | PF6131AA |
| 加工级别 | 涂覆级|||拉丝级|||唰出级|||吹堕级||| |
| 品名 | INEOS PF6131AA |
| 厂家(产地) | 英利士 |
| 用途级别 | 通用级||| |
INEOS PF6140AA
生产企业：瑞士英力士
规格用途
| 规格级别 | 外观颜色 | ||
| 该料用途 | |||
| 备注说明 | |||
技术参数
| 性能项目 | 试验条件[状态] | 测试方法 | 测试数据 | 数据单位 | |
| 物理性能 | 密度 | ISO1872-1 | 0.918 | g/cm3 | |
| 物理性能 | 熔流率（熔体流动速率）(190°C/2.16kg) | ISO1133 | 4.5 | g/10min | |
| 薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 20 | μm | ||
| 薄膜 | 拉伸模量 | 1%正割,MD:20μm | ISO1184 | 125 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸模量 | 1%正割,TD:20μm | ISO1184 | 120 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | MD:断裂,20μm | ISO1184 | 30.0 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | TD:断裂,20μm | ISO1184 | 20.0 | MPa |
| 薄膜 | 伸长率 | MD:断裂,20μm | ISO1184 | 280 | % |
| 薄膜 | 伸长率 | TD:断裂,20μm | ISO1184 | 460 | % |
| 薄膜 | 落锤冲击(20μm) | ASTMD1709A | 520 | g | |
| 薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | MD:25μm | ASTMD1922 | 310 | g |
| 薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | TD:25μm | ASTMD1922 | 450 | g |
| 薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 20 | μm | ||
| 薄膜 | 拉伸模量 | 1%正割,MD:20μm | ISO1184 | 125 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸模量 | 1%正割,TD:20μm | ISO1184 | 120 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | MD:断裂,20μm | ISO1184 | 30.0 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | TD:断裂,20μm | ISO1184 | 20.0 | MPa |
| 薄膜 | 伸长率 | MD:断裂,20μm | ISO1184 | 280 | % |
| 薄膜 | 伸长率 | TD:断裂,20μm | ISO1184 | 460 | % |
| 薄膜 | 落锤冲击(20μm) | ASTMD1709A | 520 | g | |
| 薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | MD:25μm | ASTMD1922 | 310 | g |
| 薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | TD:25μm | ASTMD1922 | 450 | g |
| 光学性能 | 光泽度(45°,20.0μm) | ASTMD2457 | 93 | ||
| 光学性能 | 雾度(20.0μm) | ASTMD1003 | 1.0 | % | |
| 补充信息 | PunctureResistance | 内部方法 | 27.0 | Ncm/μ | |
INEOS PF6140AA
